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Apreo C
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全面实现纳米或亚纳米分辨性能,从纳米颗粒,粉末,催化 剂和纳米器件到块状磁性样品等材料。
最有效的背散射电子探测始终可保证良好的材料衬度,即使 是以低电压和小束流并以任何倾斜角度对电子束敏感样品进行 TV 速率成像是也不例外。
无比灵活的探测器可将各个探测器分割提供的信息相结合, 让用户能够获得至关重要的对比或信号强度。
各种各样的荷电缓解策略,包括样品仓压力最高为 500 Pa 的低真空模式,可实现任何样品的成像。
卓越的分析平台提供高电子束电流,而且束斑很小。仓室 支持三个 EDS 探测器、共面的 EDS 和 EBSD 以及针对分析而优化的低真空系统。
样品处理和导航极容易,具有多用途样品支架和 Nav-Cam+。
通过高级用户指导、预设和撤消功能为新用户提 供专家级结果。
高真空模式下成像的羟磷灰石晶体的低能量 (1 keV) 二次电子图像。
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